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國家工程中心

數碼激光成像與顯示國家地方聯合工程研究中心(以下簡稱:工程研究中心) 于2011年11月獲國家發改委批準掛牌。工程研究中心以企業為建設主體,通過產學研相結合,建立一個運行機制優化、創新目標清晰、產業應用牽引的創新平臺。


 (一)工程研究中心構成

工程研究中心是由蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司(以下簡稱:蘇大維格公司)、蘇州大學、中科院蘇州納米技術與納米仿生研究所聯合參與建設,其中,蘇大維格公司為承建單位。共建單位蘇州大學“微納光學”投入研發經費3000萬元,用于大型儀器設備采購和實驗室建設。項目實施后,蘇州工業園區管委會將提供全面支持。

(二)主要研究方向

1、微納制造關鍵技術與裝備:重點建立高端微納制造的研發能力,研發微納光刻、納米壓印關鍵技術與裝備。提升行業的核心競爭力。

2、納米印刷技術:重點突破面向無油墨納米印刷的關鍵技術與行業應用,采用納米壓印技術實現微納結構表達的3D圖像,進行行業推廣應用。

3、功能光電顯示材料與器件:面向顯示與照明、觸控行業的重大需求,研究節能、環保的先進功能材料與器件,攻克超薄導光、微納網格透明導電膜的核心技術,實現產業應用。

4、微納界面工程:研究微納結構實現不同性能器件的方法與系統,建立面向產業鏈的綜合工程研發和配套能力。重點研究UV納米制造工藝和功能結構設計,提供可以進行工程的前瞻性研究成果。

(三)科研條件

工程研究中心的實驗室有:“大幅面激光干涉光刻裝置”、“大幅面精密激光圖形直寫實驗室”、“精密微納模具與電鑄實驗室”、“納米壓印實驗室”、“大口徑衍射光學器件實驗室”、“大幅面光刻膠涂布實驗室”、“導光與增亮器件實驗室”。

工程研究設施: 柔性制造與材料中試線(大型涂布系統、蒸鍍設備、轉移設備、刻蝕設備、納米壓印設備);大尺寸微納圖形化系統與器件中試線。擁有大型微納圖形光刻設備、紫外激光直寫設備、3D激光全息制版光刻設備、無掩膜光刻直寫設備、激光刻蝕設備、感應離子刻蝕設備、光子晶體直寫設備、納米組裝設備、超薄導光生產與中試線、UV柔性制造中試線;光、機、電、算、新材料工藝一體化研究與實驗條件。

配備了3D掃描儀、臺階儀、原子力顯微鏡、亮度色度儀、影像測試儀、光譜儀、尼康高倍顯微鏡、ICP,RIE,光刻機和系列型號激光光源。

(四)科研成果

1、建立基于納米印刷新型產業基地。微納結構產品在洋河藍色經典、勁嘉科技、中興通訊、華為科技、Nokia等企業得到應用。

2、金屬網格透明導電膜在大尺寸觸控傳感器的產業化。2013年建立27寸(門幅寬度435mm-1300mm)卷對卷透明導電膜觸控傳感器的產線。自主研發了核心技術裝備和產線,填補了我國大尺寸觸控屏核心技術的行業空白,將是我國該領域取得重大突破的重大目標產品。

3、AMOS技術產業化。AMOS(Active matrix optical system) 技術是一項新型光學安全元件技術。它具有很多獨特的視覺特征,如異向移動、同向移動、3D等多種效果。這一技術在高端光學視覺安全元件中有重要應用前景。課題組利用自主研制的激光直寫制版設備、UV卷對卷納米壓印設備, 開展了AMOS技術的批量化技術研究與應用,目前已進入小試階段。

4、承擔了國家863專項、國家重大科學儀器專項、國家國際合作專項等多個國家、省級重大項目,并與相關上下游企業建立產業合作關系,與冠捷集團、京東方、小米、德普特、業際、勁佳科技等建立產業合作,加強了與芬蘭國家技術研究院VTT建立了國際科技合作關系,與國際著名的觸控企業建立了研發與供應關系。


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